一种近红外LED外延结构制作方法及外延结构
基本信息
申请号 | CN202111660695.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114335265A | 公开(公告)日 | 2022-04-12 |
申请公布号 | CN114335265A | 申请公布日 | 2022-04-12 |
分类号 | H01L33/00(2010.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I;C30B29/42(2006.01)I;C30B29/44(2006.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I;H01L33/30(2010.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 张祥;蔡和勋;马英杰;伏兵;许宗琦 | 申请(专利权)人 | 扬州乾照光电有限公司 |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 耿苑 |
地址 | 225101江苏省扬州市下圩河路8号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请实施例公开了一种近红外LED外延结构制作方法及外延结构,该制作方法包括:在衬底表面依次形成N型层、发光层、P型层、过渡层以及欧姆接触层,欧姆接触层为GaP层,P型层包括P型限制层和P型窗口层,P型窗口层为AlxGa1‑xAs层;过渡层包括第一过渡层和第二过渡层,第一过渡层为Al组分含量沿背离衬底表面方向从x均匀减小为0的AlyGa1‑yAs层;第二过渡层为P组分含量沿背离衬底表面方向从0均匀增加为1的GaAs1‑zPz层,从而使得过渡层能够稳定实现P型窗口层到欧姆接触层的晶格与带隙的过渡,有助于提高近红外LED的工作性能,并使得过渡层与P型窗口层以及欧姆接触层实现良好的欧姆接触。 |
