一种阵列碳纳米薄膜的制备方法
基本信息
申请号 | CN201610326454.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN107381539A | 公开(公告)日 | 2017-11-24 |
申请公布号 | CN107381539A | 申请公布日 | 2017-11-24 |
分类号 | C01B32/162(2017.01)I | 分类 | 无机化学; |
发明人 | 张伟;吉小超;于鹤龙;王红美;杜军;郭蕾 | 申请(专利权)人 | 北京睿曼科技有限公司 |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 中国人民解放军装甲兵工程学院;北京睿曼科技有限公司;河北京津冀再制造产业技术研究有限公司 |
地址 | 100000 北京市丰台区杜家坎21号再制造技术重点实验室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供了一种阵列碳纳米管薄膜的制备方法,包括以下步骤:将基底置于PECVD腔体中的金属网罩中,金属网罩上方放置依次叠加的两块催化剂金属板;在PEVCD腔体中通入反应气体,加热后接通电源,反应后在基底表面得到催化剂薄膜;将PEVCD腔体加热后通入碳源和载气,接通电源,反应后在基底表面得到阵列碳纳米管薄膜。本申请催化剂薄膜和阵列碳纳米管薄膜在同一PECVD腔体内完成,且能够实现连续制备,提高了阵列碳纳米管薄膜制备的效率;另一方面,低温制备使得阵列碳纳米管薄膜能够应用于很多不耐高温的领域。 |
