晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质
基本信息
申请号 | CN202110242095.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113009321A | 公开(公告)日 | 2021-06-22 |
申请公布号 | CN113009321A | 申请公布日 | 2021-06-22 |
分类号 | G01R31/28 | 分类 | 测量;测试; |
发明人 | 李创锋 | 申请(专利权)人 | 深圳市金泰克半导体有限公司 |
代理机构 | 深圳智汇远见知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李雪鹃;杜亚明 |
地址 | 518000 广东省深圳市坪山区龙田街道长方照明工业厂区厂房B一、四层 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请涉及一种晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质,所述方法应用于晶圆,所述晶圆包括多个待测量单元,所述方法包括:获取所述晶圆上每个所述待测量单元的漏电流;根据所有所述待测量单元的漏电流,获取漏电流中位数及漏电流第一统计特征值;根据所述漏电流中位数及所述漏电流第一统计特征值,获取漏电流偏移量;根据所述漏电流中位数及所述漏电流偏移量,获取漏电流测量阈值;根据所述漏电流测量阈值筛选所述待测量单元。本申请实施例提高晶圆中芯片筛选的准确性和覆盖率,提升芯片的可靠性,降低芯片使用过程中的不良率。 |
