一种用于提高晶圆刻蚀均匀性的气体挡板
基本信息
| 申请号 | CN202022402967.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213026060U | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN213026060U | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 李鑫;张鹏 | 申请（专利权）人 | 上海稷以科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 200240上海市闵行区东川路555号戊楼4026室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于提高晶圆刻蚀均匀性的气体挡板，包括圆形板体，所述圆形板体上由中心向四周设为中心区域、实心区域和外围区域，所述中心区域设有两圈中部通孔，整体呈环形；所述外围区域均匀分布有外围通孔；所述实心区域位于中心区域和外围区域之间；所述圆形板体边沿设有固定孔。本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型很好地解决了射频等离子刻蚀问题中，衬底中心区域与边缘区域和样品刻蚀均匀性存在差异的问题，提高了等离子体刻蚀的均匀性。 |
