一种解决晶圆背面氧化的等离子体去胶机的电极结构
基本信息
申请号 | CN202022738993.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN213242486U | 公开(公告)日 | 2021-05-18 |
申请公布号 | CN213242486U | 申请公布日 | 2021-05-18 |
分类号 | H01J37/32;H01L21/67 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 张志强;杨平;李鑫 | 申请(专利权)人 | 上海稷以科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 200240 上海市闵行区东川路555号戊楼4026室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种解决晶圆背面氧化的等离子体去胶机的电极结构,包括下电极和边缘环,所述下电极呈圆形,并设有一上台阶,上台阶四周为下台阶,所述上台阶和下台阶上均设有凹槽,所述边缘环呈筒盖状,其上端面设有一晶圆放置槽,晶圆放置槽侧壁设为向中心倾斜的斜面,所述晶圆放置槽中部设有与下电极上台阶形状吻合的通孔,所述边缘环盖到下电极上,上台阶与晶圆放置槽底面相平。本实用新型与现有技术相比的优点是:本实用新型与传统去胶机的下电极相比,无论是下电极的正面还是侧边均被边缘环所或晶圆所遮挡,因此见到氧的概率急剧减少,进而规避了晶圆背面被氧化的概率。 |
