一种多层内衬壁等离子体处理装置
基本信息
| 申请号 | CN202020568951.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212010900U | 公开（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申请公布号 | CN212010900U | 申请公布日 | 2020-11-24 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 彭帆;杨平 | 申请（专利权）人 | 上海稷以科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 200240上海市闵行区东川路555号戊楼4026室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型技术方案公开了一种多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，包括真空腔壁、安装于所述真空腔壁内侧壁上的多层内衬壁、固定于所述真空腔壁内的腔室中的载物台以及与所述载物台连接且水平地将腔室隔离为等立体产生腔室和真空腔室的隔离板，所述真空腔壁的顶部和底部分别设置进气口和抽气口，所述真空腔壁的底部安装有用于更换多层内衬壁的升降机构，所述升降机构连接至后台控制器。本实用新型通过在真空腔壁内设置可更换的多层内衬壁，并通过升降机构实现了在不破真空状态下的层内衬壁的更换，大幅度提高了等离子体处理装置的设备利用率。 |
