等离子化学气相沉积装置
基本信息
| 申请号 | CN201711317453.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109913854B | 公开（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申请公布号 | CN109913854B | 申请公布日 | 2021-05-07 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 张志强;彭帆;杨平 | 申请（专利权）人 | 上海稷以科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海立群专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 侯莉 |
| 地址 | 200241上海市闵行区东川路555号戊楼4026室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及化学气相沉积领域，公开了一种等离子化学气相沉积装置。本发明中，该等离子化学气相沉积装置，包括阳极、阴极及至少一个调节电路；所述阳极上连接有基底；通过调节所述调节电路的阻抗，能够调节所述阳极的电压，从而控制等离子对所述基底的轰击能量，以便改善基底表面材料的特性，提高表面结合力。相对于传统技术而言，本实施方式的装置无需设置多个射频电源，即可实现对离子轰击能量的调节，提高产品性能，大大降低了设备的成本以及设备的复杂性。 |
