一种平板式PECVD进气排布结构
基本信息
申请号 | CN201921972897.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN211771537U | 公开(公告)日 | 2020-10-27 |
申请公布号 | CN211771537U | 申请公布日 | 2020-10-27 |
分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 陈金元 | 申请(专利权)人 | 理想万里晖真空装备(泰兴)有限公司 |
代理机构 | 苏州国卓知识产权代理有限公司 | 代理人 | 理想万里晖真空装备(泰兴)有限公司 |
地址 | 225400江苏省泰州市泰兴高新技术产业开发区环溪路北侧 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种平板式PECVD进气排布结构,包括,箱体、放置孔和连接块,所述箱体的左右两侧均开设有放置孔,所述箱体的内腔左右两侧均安装有连接块,移动机构,所述连接块的内腔安装有移动机构,传动机构,所述箱体的内腔顶端安装有传动机构,还包括外接管和伸缩软管。该平板式PECVD进气排布结构,通过顺时针旋转转动杆,第二齿轮跟随顺时针旋转可带动第一齿轮逆时针旋转,促使螺杆跟随逆时针旋转,螺纹筒可在螺杆的外壁向下移动,使进气管可向下移动,从而改变进气管的高度,装置的进气管可进行上下调节,以根据生产过程中的需求进行调节,提高装置的适用范围。 |
