一种平板式PECVD进气排布结构

基本信息

申请号 CN201921972897.9 申请日 -
公开(公告)号 CN211771537U 公开(公告)日 2020-10-27
申请公布号 CN211771537U 申请公布日 2020-10-27
分类号 C23C16/455(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 陈金元 申请(专利权)人 理想万里晖真空装备(泰兴)有限公司
代理机构 苏州国卓知识产权代理有限公司 代理人 理想万里晖真空装备(泰兴)有限公司
地址 225400江苏省泰州市泰兴高新技术产业开发区环溪路北侧
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种平板式PECVD进气排布结构,包括,箱体、放置孔和连接块,所述箱体的左右两侧均开设有放置孔,所述箱体的内腔左右两侧均安装有连接块,移动机构,所述连接块的内腔安装有移动机构,传动机构,所述箱体的内腔顶端安装有传动机构,还包括外接管和伸缩软管。该平板式PECVD进气排布结构,通过顺时针旋转转动杆,第二齿轮跟随顺时针旋转可带动第一齿轮逆时针旋转,促使螺杆跟随逆时针旋转,螺纹筒可在螺杆的外壁向下移动,使进气管可向下移动,从而改变进气管的高度,装置的进气管可进行上下调节,以根据生产过程中的需求进行调节,提高装置的适用范围。