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一种PECVD沉积腔支撑装置

基本信息

申请号	CN201921969081.0	申请日	-
公开（公告）号	CN212247205U	公开（公告）日	2020-12-29
申请公布号	CN212247205U	申请公布日	2020-12-29
分类号	C23C16/50	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	陈金元	申请（专利权）人	理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司
代理机构	苏州国卓知识产权代理有限公司	代理人	理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司
地址	225400 江苏省泰州市泰兴高新技术产业开发区环溪路北侧
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种PECVD沉积腔支撑装置，包括：等离子体外壳；三通道气体流量计外壳，所述三通道气体流量计外壳设置在等离子体外壳的一端；真空泵外壳，所述真空泵外壳设置在三通道气体流量计外壳的一端；管式炉外壳，所述管式炉外壳设置在三通道气体流量计外壳的顶端；支撑块，所述支撑块的数量为十二个，每四个为一组，分别设置在所述等离子体外壳、三通道气体流量计外壳和真空泵外壳的底端。该PECVD沉积腔支撑装置，在工作前，将千斤顶支撑好，转动摇把，通过转动机构将轱辘收回到支撑块的内腔里，再使千斤顶归位，利用支撑块进行支撑；需要搬运时，利用千斤顶将设备支起，反向转动摇把，将轱辘转出支撑块，即可搬运，实用性强。