一种用于化学气相沉积金刚石的双腔体系统及设备
基本信息
| 申请号 | CN202111631993.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114277355A | 公开（公告）日 | 2022-04-05 |
| 申请公布号 | CN114277355A | 申请公布日 | 2022-04-05 |
| 分类号 | C23C16/27（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 蒋礼;全峰;顾亚骏 | 申请（专利权）人 | 深圳优普莱等离子体技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518000广东省深圳市光明区光明街道东周社区双明大道315号易方大厦1308 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及了一种用于化学气相沉积金刚石的双腔体系统及设备，包括第一腔体、第二腔体、真空插板阀和物料运输机构，真空插板阀固定连接第二腔体的一端和第一腔体，物料运输机构连接第二腔体的另一端，物料运输机构可以在第一腔体和第二腔体中伸缩移动。本发明的用于化学气相沉积金刚石的双腔体系统可以克服现有技术中多次打开和关闭反应腔舱门进行去除晶格缺陷操作时促使反应腔中引入空气中水汽等杂质气体的技术缺陷，实现高品质金刚石的生长。 |
