一种等离子体刻蚀机的腔体
基本信息
| 申请号 | CN202121966773.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216054569U | 公开（公告）日 | 2022-03-15 |
| 申请公布号 | CN216054569U | 申请公布日 | 2022-03-15 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 吴福仁;霍曜;李彬彬;李瑞评 | 申请（专利权）人 | 福建晶安光电有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 362411福建省泉州市安溪县湖头镇横山村光电产业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种等离子体刻蚀机的腔体，包括分子泵、进气口、抽气口、匀气盘、载盘，所述进气口位于腔体顶部，所述抽气口位于腔体侧壁处，所述分子泵位于抽气口处，所述匀气盘上开有多个通气孔，所述通气孔为内外两圈呈环形分布，所述通气孔的开口位置、孔径大小、开口方向、开口角度或间距可调整，以使通过所述进气口导入所述腔体的反应气体均匀分流后导出腔体，从而达到提高整盘晶片刻蚀的速率，提高等离子体刻蚀均匀性的效果。 |
