一种钨镍合金靶材及其制备方法

基本信息

申请号 CN201910955313.5 申请日 -
公开(公告)号 CN110885963B 公开(公告)日 2022-03-04
申请公布号 CN110885963B 申请公布日 2022-03-04
分类号 C23C14/08(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B22F1/00(2022.01)I;B22F3/04(2006.01)I;B22F3/10(2006.01)I;B22F3/15(2006.01)I;B22F3/24(2006.01)I;C22C27/04(2006.01)I;C22C19/03(2006.01)I;C03C17/245(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 刘桂荣;王广达;弓艳飞;杨林;熊宁 申请(专利权)人 安泰科技股份有限公司
代理机构 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 荣红颖;刘春成
地址 301800天津市宝坻区西环北路与中关村大道交口中关村协同发展中心2号楼202
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种钨镍合金靶材的制备方法和该方法制备的钨镍合金靶材。该钨镍合金靶材的制备方法包括:原料配制步骤:将钨粉、镍粉进行混合处理,得到混合粉;压制成形步骤:将所述混合粉进行压制成形处理,得到预制坯;烧结步骤:将所述预制坯进行烧结处理,得到烧结坯料;热等静压处理步骤:将所述烧结坯料进行热等静压处理,得到热等静压坯料;热处理步骤:将所述热等静压坯料进行热处理,之后快速冷却,得到钨镍合金靶材。本发明采用首先低温烧结,然后热等静压工艺进行致密化处理,钨镍合金靶材的致密度达到99.8%以上、且各向同性,钨相平均粒度小于30微米,可广泛应用于玻璃镀膜方面。