光学滤波器、制造方法及环境光传感器
基本信息
| 申请号 | CN202111131418.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113865701A | 公开（公告）日 | 2021-12-31 |
| 申请公布号 | CN113865701A | 申请公布日 | 2021-12-31 |
| 分类号 | G01J1/04（2006.01）I;G02B5/28（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 於广军 | 申请（专利权）人 | 上海申矽凌微电子科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海段和段律师事务所 | 代理人 | 黄磊;郭国中 |
| 地址 | 201108上海市闵行区虹梅南路2588号1幢A320室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种光学滤波器、制造方法及环境光传感器，包括：衬底、光敏元器件、第一介质层、第一反射镜层、第一干涉层、第二反射镜层以及第二介质层；所述光敏元器件位于所述衬底内，所述第一介质层的下表面连接所述衬底和所述光敏元器件的上表面，所述第一反射镜层的下表面连接所述第一介质层的上表面，所述第一干涉层的下表面连接所述第一反射镜层的上表面，所述第二反射镜层的下表面连接所述第一干涉层的上表面，所述第二介质层的下表面连接所述第二反射镜层的上表面。本发明提出了一种兼容CMOS工艺的反射镜方案，在不降低滤波性能的基础上，可以降低制造成本，最大程度降低加工过程中工厂切换带来的麻烦。 |
