一种抛光装置转轴缓冲结构
基本信息
| 申请号 | CN202020644605.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212351614U | 公开（公告）日 | 2021-01-15 |
| 申请公布号 | CN212351614U | 申请公布日 | 2021-01-15 |
| 分类号 | B24B37/34(2012.01)I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 贾隽峰;张欢;郭彦青;刘钟佳;赵健朗 | 申请（专利权）人 | 陕西晟思智能测控有限公司 |
| 代理机构 | 西安赛博睿纳专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 陕西晟思智能测控有限公司 |
| 地址 | 710000陕西省西安市西咸新区沣西新城西部云谷14号楼2层202号061号工位 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型的一种抛光装置转轴缓冲结构，包括：电机法兰，用于与电机转轴固定并和抛光盘进行一体连接；电机支架，用于与电机壳体进行固定；所述电机法兰通过轴承与电机支架转动连接；轴端挡圈，设置在电机转轴上，用于锁紧电机法兰；轴用挡圈，设置在电机法兰上，用于锁紧轴承。能将抛光过程中抛光盘受到的弯矩力分别分解在法兰、电机支架、轴承上使得电机转轴受到的减少了很多，有效地保护电机转轴延长转轴寿命同时也提高了研磨精度。 |
