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一种高真空电阻炉

基本信息

申请号 CN202111451812.4 申请日 -
公开（公告）号 CN114034184A 公开（公告）日 2022-02-11
申请公布号 CN114034184A 申请公布日 2022-02-11
分类号 F27B5/04（2006.01）I;F27B5/06（2006.01）I;F27B5/14（2006.01）I;F27B5/16（2006.01）I 分类 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉〔4〕;
发明人 龙占勇;林佳继;罗迎春;李东林;李洪 申请（专利权）人 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
代理机构 杭州天昊专利代理事务所（特殊普通合伙） 代理人 董世博
地址 518118广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种高真空电阻炉,包括真空系统、炉体、加热装置、冷却装置、工艺管路系统和石墨装置，真空系统和工艺管路系统安装在炉体外部，加热装置、冷却装置和石墨装置安装在炉体内部，真空系统包括真空管路和脱脂机构，真空管路控制不同工艺阶段的炉体的真空度，脱脂机构对混合气体进行脱脂处理，加热装置控制对炉体内的温度，冷却装置控制制品的冷却速度，本发明采用一级真空管路、二级真空管路和三级真空管路控制不同工艺阶段的真空度，降低设备复杂程度和成本，真空系统控制炉体真空度，通过脱脂箱和集脂箱将制品中的粘结剂及成型剂有效抽出炉膛，减小对炉膛的污染。