一种高效率量子点光学基片及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202210670891.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114755861A | 公开（公告）日 | 2022-07-15 |
| 申请公布号 | CN114755861A | 申请公布日 | 2022-07-15 |
| 分类号 | G02F1/13357（2006.01）I;B32B27/32（2006.01）I;B32B27/30（2006.01）I;B32B27/36（2006.01）I;B32B27/34（2006.01）I;B32B27/18（2006.01）I;B32B27/20（2006.01）I;B32B27/08（2006.01）I;B32B27/06（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 陈锦全;周道全 | 申请（专利权）人 | 广东欧迪明光电科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海微策知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 526238广东省肇庆市高新区古塘北路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及光致发光领域，尤其涉及一种高效率量子点光学基片及其制备方法。光学基片的结构由下至上包括：光输入层，第一色谱层，散射层，第二色谱层和光输出层；第一色谱层和第二色谱层中包含量子点荧光微粒；所述量子点荧光微粒为红光量子点、绿光量子点、蓝光量子点、紫光量子点中的任一种。本发明制备的光学基片具有优异的量子点光学基片光转换效率，特别是在相同QD‑G浓度条件下较大幅度提高QD‑G的外量子效率，克服了现有量子点器件光谱转换效率较低的技术难点，并且同时具有良好防腐蚀性以及力学性能，适宜在光致发光领域推广，具有广阔的发展前景。 |
