一种负压式硅片制作设备及其控制方法

基本信息

申请号 CN201510166783.5 申请日 -
公开(公告)号 CN104818529B 公开(公告)日 2017-04-19
申请公布号 CN104818529B 申请公布日 2017-04-19
分类号 C30B29/06(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I;C30B28/06(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 高文秀;李帅;赵百通 申请(专利权)人 江苏盎华光伏工程技术研究中心有限公司
代理机构 上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 金碎平;袁亚军
地址 214213 江苏省无锡市宜兴经济开发区文庄路8号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种负压式硅片制作设备及其控制方法,包括炉体,所述炉体内设有用于盛放硅液的坩埚,所述坩埚的外侧周围设有加热器,所述坩埚的上方设有硅片提取单元,所述硅片提取单元包括可一起上下移动的冷却腔和扩容减压室,所述冷却腔伸入到扩容减压室中,所述扩容减压室的上端封闭,下端开口并在开口处设有耐温挂件,所述耐温挂件围绕在冷却腔的周围并伸出冷却腔的底部,所述冷却腔的外壁、扩容减压室的内壁以及硅液之间可形成密闭负压腔,所述炉体上设有硅片承接板,所述硅片承接板上设有高频感应线圈。本发明可实现由硅熔液直接形成硅片的过程,硅片厚度薄,重复性好,大大节省了硅材料及单个硅片的能耗,并降低硅太阳能电池成本。