一种抛光设备
基本信息
| 申请号 | CN201911416208.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113118938A | 公开（公告）日 | 2021-07-16 |
| 申请公布号 | CN113118938A | 申请公布日 | 2021-07-16 |
| 分类号 | B24B27/00（2006.01）I;B24B29/02（2006.01）I;B24B53/007（2006.01）I;B24B41/00（2006.01）I;B24B55/06（2006.01）I;B08B3/04（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 杨兆明;颜凯;中原司 | 申请（专利权）人 | 浙江芯晖装备技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 314400浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区隆兴路118号内主办公楼3楼370室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及抛光技术领域，公开一种抛光设备。所述抛光设备包括安装台、传送机构和抛光机构。安装台上沿第一水平方向排列设置有多个独立的抛光区。传送机构沿第一水平方向可移动地设置在安装台上，以传送晶圆。每个抛光区内均设置有抛光机构，抛光机构包括抛光盘和抛光头，抛光盘和抛光头均可转动地设置在安装台上，抛光头沿第二水平方向可移动且沿竖直方向可升降地设置在安装台上，以吸附传送机构上的晶圆，并将晶圆移动至抛光盘的上方，抛光盘能够与抛光头相配合对晶圆进行抛光。本发明提供的抛光设备，能够有效提高抛光良率和抛光效率，同时适用范围广，能够满足多种抛光精度的要求。 |
