一种应用于基板承载台的可调位姿清洗装置

基本信息

申请号 CN202111509815.9 申请日 -
公开(公告)号 CN114192454A 公开(公告)日 2022-03-18
申请公布号 CN114192454A 申请公布日 2022-03-18
分类号 B08B1/00(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I 分类 清洁;
发明人 杨兆明;川嶋勇;张峰 申请(专利权)人 浙江芯晖装备技术有限公司
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 张英英
地址 314499浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区隆兴路118号内主办公楼3楼370室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种应用于基板承载台的可调位姿清洗装置,包括架设于基板承载台表面上方的安装支架、连接于所述安装支架底面的若干个球面副机构、插设于各所述球面副机构中并与其同步球面运动的若干根芯轴、连接于各根所述芯轴末端的固定支架、设置于各所述固定支架底面并朝向基板承载台延伸的若干个刮板。如此,当球面副机构产生球面运动时,通过芯轴带动刮板产生同步球面运动,进而改变刮板的位姿,从而在基板承载台的位姿产生变化时,通过各个刮板的位姿变化即可跟随基板承载台的位姿变化而对应调整,进而使刮板能够始终贴合基板承载台的表面,因此能够适应不同位姿的基板承载台,实现对承载面的稳定贴合,保证清洗效果,并稳定解决Dimple现象。