一种超表面光学器件及其制作工艺
基本信息
| 申请号 | CN202210253719.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114721071A | 公开（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申请公布号 | CN114721071A | 申请公布日 | 2022-07-08 |
| 分类号 | G02B1/00（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 孙磊;杨新征;邱兵 | 申请（专利权）人 | 苏州山河光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京墨丘知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 300450天津市滨海新区经济技术开发区滨海-中关村科技园华塘睿城一区3号楼二层B区015号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种超表面光学器件及其制作工艺，其中，所述超表面光学器件包括：衬底和设置在所述衬底端面之上的多个纳米柱，所述多个纳米柱的材料包括至少两种，所述至少两种材料的色散系数相互补偿。本发明采用至少两种材料构成全部纳米柱，且不同材料的折射率和色散系数均不相同，光线在经过纳米柱时，会产生不同的衍射效果，通过纳米柱不同的材料、结构和排列等，对出射光的波前进行调制，包括并不限于减小或增大色差、调制偏振、振幅、频率等，实现不同的预设功能。 |
