一种氧化铟掺钨靶材的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110133149.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112853285A | 公开（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申请公布号 | CN112853285A | 申请公布日 | 2021-05-28 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陆映东;薛超;张倍维;王凯;宋春华;梁盈祥 | 申请（专利权）人 | 广西晶联光电材料有限责任公司 |
| 代理机构 | 柳州市荣久专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 韦微 |
| 地址 | 545616广西壮族自治区柳州市柳东新区水湾路2号柳东标准厂房2号配套办公楼222号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种氧化铟掺钨靶材的制备方法，包括以下步骤：（一）含铟原料的制备：将铟金属用有机酸进行溶解，得到有机酸铟溶液待用或者进一步向其中加入醇，使其产生氢氧化铟沉淀待用；（二）混入含钨原料：将仲钨酸铵或偏钨酸铵溶解于上述有机酸铟溶液或氢氧化铟与水的混合物中；（三）经过喷雾干燥即得铟钨元素混合均匀的粉末，为IWO前驱体；（四）将所得IWO粉末前驱体，经煅烧后得IWO粉末；（五）经成型、烧结后得IWO靶材。本发明采用的含铟原料和含钨原料中至少1种原料是以溶液的形式存在，并进行混合，由于是液‑液混合或液‑固混合，所以较粉末与粉末混合更加均匀，因此使得制备的IWO靶材，钨的掺杂更加均匀。 |
