一种大尺寸高密度细晶粒ITO靶材的常压烧结制造方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种大尺寸高密度细晶粒ITO靶材的常压烧结制造方法

基本信息

申请号	CN201610244597.3	申请日	-
公开（公告）号	CN105712719B	公开（公告）日	2019-02-26
申请公布号	CN105712719B	申请公布日	2019-02-26
分类号	C04B35/64;C04B35/457	分类	水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕;
发明人	张士察;孙振德	申请（专利权）人	北京冶科纳米科技有限公司
代理机构	北京英特普罗知识产权代理有限公司	代理人	北京冶科纳米科技有限公司;冶科金属有限公司
地址	101100 北京市通州区经济开发区东区靓丽五街06号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种大尺寸高密度细晶粒ITO靶材的常压烧结制造方法，其包括以下步骤：1)将纯度大于99.99％的ITO粉体，依次经模压处理及冷等静压处理后，得到ITO素坯；2)将ITO素坯进行脱脂处理后，对ITO素坯进行抽真空并向素坯孔隙中填充氧气处理；3)步骤2)中经抽真空及充氧处理后的素坯在常压通氧气氛下进行常压烧结处理，即得所述的ITO靶材。本发明通过对ITO素坯进行抽真空、并向素坯的孔隙中充入氧气，使得在常压氧气氛烧结过程中，素坯孔隙中的氧以及炉膛中的氧共同抑制了ITO在烧结过程中的分解及挥发，从而以较短的烧结时间制备出大尺寸高密度细晶粒的ITO靶材，制得的ITO靶材的相对密度在99.5％以上，晶粒度为4～10μm。