一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统
基本信息
| 申请号 | CN201720269679.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN207042935U | 公开（公告）日 | 2018-02-27 |
| 申请公布号 | CN207042935U | 申请公布日 | 2018-02-27 |
| 分类号 | B08B3/12;B08B3/00 | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 向军;朱永根 | 申请（专利权）人 | 深圳市佐藤科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京权智天下知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 王新爱 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市光明新区公明办事处李松蓢社区第一工业区第74号第1栋、第2栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统，包括储液桶、清洗瓶以及负压罐，储液桶与清洗瓶之间通过水管连通，水管上设有单向阀门，清洗瓶上方设有采样针固定夹，清洗瓶底部设有超声波发生器，清洗瓶底部还开有出液孔，出液孔连接排液管，排液管与负压罐连通，负压罐底部通过负压管连接负压泵，负压罐底部还设有排污管，本实用新型结构简单，使用方便，能够实现对采样针的快速清洗，清洗效率高，同时排出的废液不会污染环境。 |
