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一种像素化转光层及其制备方法

基本信息

申请号 CN202010186060.2 申请日 -
公开（公告）号 CN113410370A 公开（公告）日 2021-09-17
申请公布号 CN113410370A 申请公布日 2021-09-17
分类号 H01L33/50（2010.01）I;H01L51/56（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I 分类 基本电气元件;
发明人 钟海政;孟令海;施立甫;王晶晶;李劲 申请（专利权）人 致晶科技（北京）有限公司
代理机构 北京元周律知识产权代理有限公司 代理人 张梅娟
地址 100081北京市海淀区中关村南大街5号二区683栋8层01室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种像素化转光层及其制备方法，所述方法至少包括：获得含有像素槽的基板；将含有发光材料前驱体的溶液转移到基板的像素槽内，发光材料前驱体原位生成发光材料，得到填充发光材料的基板；在上述基板表面涂覆封装材料，得到像素化转光层。本发明只需将发光材料前驱体直接填入基板像素槽内，封装，即可实现钙钛矿纳米晶的像素化图案制备，省去了后续的打印和封装工序，降低了成本，得到的封装好的图案化钙钛矿纳米晶可以作为彩色转光层，低成本实现了显示器件的彩色化显示。本发明提供了一种新的面向显示的钙钛矿纳米晶图案化技术，无需配制专门的钙钛矿纳米晶墨水，也无需复杂的打印设备。