一种真空磁控溅射的金属镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202122161514.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215481236U | 公开（公告）日 | 2022-01-11 |
| 申请公布号 | CN215481236U | 申请公布日 | 2022-01-11 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 钦瑞良 | 申请（专利权）人 | 苏州凯瑞纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州简专知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 兰仙梅 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市吴中经济开发区兴南路1号6幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，包括壳体，所述壳体的侧板底面螺栓连接盖板，所述壳体内安装第一冷却板，所述第一冷却板内设有冷却水道，所述第一冷却板的左右两侧分别连接与所述冷却水道连通的输入管和输出管，所述盖板的底面水平安装循环泵，所述循环泵的输出端与所述输出管连接，所述循环泵的输入端与所述输入管连接，所述盖板的顶面设置磁轭，通过本方案对靶材运行时产生的温度进行降温，保证了设备在对金属材料进行镀膜时运行的稳定性，在一定程度上起到了延长镀膜设备的使用寿命。 |
