一种真空离子蒸发镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201620435356.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205556765U | 公开（公告）日 | 2016-09-07 |
| 申请公布号 | CN205556765U | 申请公布日 | 2016-09-07 |
| 分类号 | C23C14/26(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 关振奋 | 申请（专利权）人 | 晋谱（福建）光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 福州市景弘专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黄以琳;林祥翔 |
| 地址 | 351111 福建省莆田市高新技术产业开发区（涵江区江口镇锦江西路2899号） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空离子蒸发镀膜装置，该真空离子蒸发镀膜装置的壳体包括三层密封壳体，并在不同密封壳体之间设置有夹层空腔，在不同的夹层空腔内和在壳体外分别设置了真空泵，通过逐层抽真空的方式对中央真空室进行抽真空，大大提高了抽真空的效果，从而使本真空离子蒸发镀膜装置能够制得连续薄膜，提高薄膜在基板上的附着力，以及工艺重复性。 |
