一种高精度真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201620435527.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205576266U | 公开（公告）日 | 2016-09-14 |
| 申请公布号 | CN205576266U | 申请公布日 | 2016-09-14 |
| 分类号 | C23C14/26(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 关振奋 | 申请（专利权）人 | 晋谱（福建）光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 福州市景弘专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黄以琳;林祥翔 |
| 地址 | 351111 福建省莆田市高新技术产业开发区（涵江区江口镇锦江西路2899号） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种高精度真空镀膜装置，包括壳体、抽真空装置和坩埚，所述壳体由外至内依次包括外层壳体、隔热层、内层壳体和内衬；抽真空装置包括真空泵和真空压力传感器，所述真空压力传感器设置于中央真空室内；坩埚设置于中央真空室的底部，坩埚设置有加热装置，坩埚的上方设置有用于夹装镀膜基材的固定装置；加热装置包括两个以上设置于坩埚底部不同位置的发热丝，以及两个设置于坩埚内侧面不同位置的温度传感器，其中，所述发热丝分别连接于不同的控制开关。本实用新型高精度真空镀膜装置提高了镀膜厚度控制精度，提高了产品加工工艺的重复性。 |
