一种检测高纯四氟化锗杂质含量的气相色谱系统及方法
基本信息
| 申请号 | CN202110911025.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113419019A | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN113419019A | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | G01N30/20（2006.01）I;G01N30/78（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 张红潇;普世坤;柴皓茗;尹国文;李正美;罗中旭;吴王昌;熊浩;邵雨萌 | 申请（专利权）人 | 云南临沧鑫圆锗业股份有限公司 |
| 代理机构 | 昆明祥和知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘敏 |
| 地址 | 650091云南省昆明市翠湖北路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于高纯四氟化锗产品质量检测技术领域，具体公开一种检测高纯四氟化锗中杂质含量的气相色谱系统及方法，包括通过管路相互连接的切换阀系统、载气系统、进样系统、柱系统、尾气处理系统、检测系统，切换阀系统为五个，载气设置6条，进样系统中的两个装样品的定量环连通，可同时完成两个定量环的进样，设置两套分离系统，即用不同的预柱和色谱柱将高纯四氟化锗的不同成分进行分离，分离主成分后杂质气体进入相应的检测系统进行检测，而主成分四氟化锗通过反吹方式，从各个尾气处理口排出，使用本发明的气相色谱系统，进样后控制反吹时间将主要组分四氟化锗利用双反吹+中心切割吹扫出去，提高了其中痕量杂质分析的检出限和结果的准确性。 |
