一种双面曝光的对准装置、方法及设备
基本信息
申请号 | CN201811557789.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN109613803B | 公开(公告)日 | 2021-05-28 |
申请公布号 | CN109613803B | 申请公布日 | 2021-05-28 |
分类号 | G03F9/00(2006.01)I | 分类 | - |
发明人 | 傅志伟 | 申请(专利权)人 | 江苏影速集成电路装备股份有限公司 |
代理机构 | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张勇 |
地址 | 221000 江苏省徐州市邳州市恒山路西侧 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种双面曝光的对准装置、方法及设备,属于印刷线路板技术领域。所述装置包括:包括定位标记、打标标记和位置获取装置,在每一件待曝光样品曝光之前都通过位置获取装置获取定位标记的位置信息,从而获知定位标记的在实际生产中的位置变化量,由于打标标记和定位标记的相对位置不变,所以即获知到打标标记在实际生产中的位置变化量,根据该位置变化量实时调整待曝光样品的另一面曝光图形的位置,解决了现有技术无法实时对打标标记进行实时定位而引起的曝光对位不准的问题,提高了待曝光样品双面对准的精度。 |
