一种磁材镀膜装置的旋转靶材
基本信息
| 申请号 | CN201920408150.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209778984U | 公开（公告）日 | 2019-12-13 |
| 申请公布号 | CN209778984U | 申请公布日 | 2019-12-13 |
| 分类号 | C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李启炎 | 申请（专利权）人 | 浙江云度新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 杭州永绎专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 许传秀 |
| 地址 | 315100 浙江省宁波市鄞州区潘火街道宁创科技中心1号2806室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域，且公开了一种磁材镀膜装置的旋转靶材，包括第一靶材，第一靶材的右侧固定连接有第二靶材，第二靶材的右侧固定连接有第三靶材，第一靶材、第二靶材和第三靶材的底部活动连接有基座，基座顶部的两侧均开设有第一长槽，两个第一长槽内部的一侧均活动连接有L形板，L形板的数量为四个，且两个L形板为一组，两个L形板的底端均通过第一长槽活动套装于基座的内部。该磁材镀膜装置的旋转靶材，通过第一靶材、第二靶材和第三靶材之间的配合设置，同时通过靶材之间的四十五度斜角拼接技术，能够有效防止镀膜过程时出现整条缝隙没有靶材的现象，能够有效避免靶材提前损耗，从而提高靶材的利用率。 |
