一种等离子体增强的原子层沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202121336165.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214991834U | 公开（公告）日 | 2021-12-03 |
| 申请公布号 | CN214991834U | 申请公布日 | 2021-12-03 |
| 分类号 | C23C16/44（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 董雷鸣;闫苏霞;王勇 | 申请（专利权）人 | 南京港能环境科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京华际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 袁瑞红 |
| 地址 | 210000 江苏省南京市玄武区玄武大道699-1号徐庄软件产业基地行政大楼7层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及原子层沉积技术领域，且公开了一种等离子体增强的原子层沉积设备，包括真空反应腔、反应气、惰性气体瓶、前驱物输运模块、加热模块、分子真空泵、真空泵和废气处理系统，所述真空反应腔的上端固定连通有等离子发生腔，所述等离子发生腔的上端固定设置有等离子体发生腔进气口，所述等离子发生腔与真空反应腔的连接处设置有阀门，所述真空反应腔的上端对称连通有两个真空反应腔进气管，所述真空反应腔进气管位于真空反应腔内的一端固定连通有矩阵式进气喷嘴。本实用新型能够提高原子层沉积设备的工作效率，沉积均匀性，前驱物输运的效率和精准控制，便于清洗，能够提高维护的效率。 |
