一种二极管生产加工用刻蚀装置及其使用方法
基本信息
| 申请号 | CN202110941681.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113823583A | 公开（公告）日 | 2021-12-21 |
| 申请公布号 | CN113823583A | 申请公布日 | 2021-12-21 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 华铁军;黄春城 | 申请（专利权）人 | 江苏海创微电子有限公司 |
| 代理机构 | 安徽致至知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 秦玉霞 |
| 地址 | 224000江苏省盐城市大丰区新丰镇创客园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种二极管生产加工用刻蚀装置及其使用方法，包括调整机构和静电机构，承接内筒外圈的静电机构环绕传动机构进行螺旋旋转，利用外接触件与拨动排列轴进行接触，二者之间摩擦产生静电，因外接触件的环形阵列开设，使其成为一个类圆状，从而产生的静电形成一类圆状电场，产生的类圆形静电场直径大于刻蚀衬底的直径，使其能够对刻蚀衬底上的二极管进行限位，产生的静电场通过外伸横杆对其进行吸引，使产生的静电场的边缘高度提升，使整体静电场成为类倒漏斗状，对湿法刻蚀时的化学反应生成的物质进行吸附，且能够对密闭器皿中的杂质进行阻隔，使刻蚀衬底上的二极管接触杂质减少。 |
