一种耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制备方法

基本信息

申请号 CN202011574426.X 申请日 -
公开(公告)号 CN112574447A 公开(公告)日 2021-03-30
申请公布号 CN112574447A 申请公布日 2021-03-30
分类号 C08G73/10(2006.01)I;C09D179/08(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C09D7/61(2018.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08J7/04(2020.01)I 分类 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物;
发明人 张明玉;吴斌;张春琪;顾健峰;翁凌;程小荣;徐晓风 申请(专利权)人 欧邦科技(苏州)有限公司
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人 汪青
地址 215214江苏省苏州市吴江区汾湖经济开发区北厍育才路36号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制备方法,该薄膜包括位于中间的聚酰亚胺纯层,以及分设于聚酰亚胺纯层上下表面的杂化层,每侧杂化层包括自聚酰亚胺纯层表面向外依次设置的掺杂有氧化铝的聚酰亚胺杂化层、掺杂有二氧化硅的聚酰亚胺杂化层、掺杂有二氧化钛的聚酰亚胺杂化层。本发明采用逐层辊涂的方式制备该耐电晕聚酰亚胺薄膜。中间的聚酰亚胺纯层既能够维持复合薄膜优异的力学性能,又和杂化层形成层间界面增强复合薄膜的介电性能;位于聚酰亚胺纯层上下两个表面的三层复合薄膜的杂化层,通过不同无机粒子在聚酰亚胺基体内部不同的层状分布和在薄膜内部的立体空间上利用无机粒子形成密集的防护层,意外获得了显著提升的耐电晕效果。