一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构
基本信息
| 申请号 | CN201010269018.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101914762B | 公开（公告）日 | 2013-03-06 |
| 申请公布号 | CN101914762B | 申请公布日 | 2013-03-06 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 冉军学;胡国新;梁勇;王军喜;段瑞飞;曾一平;李晋闽 | 申请（专利权）人 | 广东省中科宏微半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 广东省中科宏微半导体设备有限公司 |
| 地址 | 510530 广东省广州高新技术产业开发区科学城开源大道11号A4栋首层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构，该结构包括进气顶盘法兰和水冷匀气板，该进气顶盘法兰为一圆形金属盘状结构，中间为圆形凹坑，沿圆形凹坑径向用板条隔开，分为2n个扇形区，n为大于1的整数；该水冷匀气板分为有机源水冷匀气板和氢化物气体水冷匀气板，每一个扇形区对应一个水冷匀气板。利用本发明，可以使反应气体均匀的进入反应室内，使反应室内气体达到均匀生长的气流模式。 |
