衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统
基本信息
| 申请号 | CN201510585911.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105063575A | 公开（公告）日 | 2015-11-18 |
| 申请公布号 | CN105063575A | 申请公布日 | 2015-11-18 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 蒋国文;冉军学;王其忻;胡强 | 申请（专利权）人 | 广东省中科宏微半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 广东省中科宏微半导体设备有限公司 |
| 地址 | 510670 广东省广州市高新技术产业开发区科学城开源大道11号A4首层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统，衬底托盘设置有多个沿反射率监控圆环间隔设置的第一衬底放置区至第N衬底放置区；其中，自第一衬底放置区起，相邻两个衬底放置区的间隔分别为第一间隔至第N间隔，第一间隔至第N间隔中包括有至少一个定位间隔，且其余间隔的距离相同，定位间隔的距离与任意相邻衬底放置区的间隔的距离不同。获取采集反射率数据并绘制为反射率柱形图，由于在衬底托盘的第一间隔至第N间隔中设置至少一个定位间隔，进而通过相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离对定位间隔进行确定，并通过衬底托盘的转动方向，以最终确定发射率柱形图中每个柱形所对应的衬底。 |
