3D偏振膜的制备装置及方法
基本信息
申请号 | CN202111461842.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114153076A | 公开(公告)日 | 2022-03-08 |
申请公布号 | CN114153076A | 申请公布日 | 2022-03-08 |
分类号 | G02B30/25(2020.01)I;B32B37/10(2006.01)I;B32B38/00(2006.01)I;B32B38/10(2006.01)I;B32B37/12(2006.01)I;B32B38/16(2006.01)I | 分类 | 光学; |
发明人 | 孙宝铎;董家亮;鲜成波;王华波;顾开宇;杨枫;魏厚伟;韩岩辉;洪晓明 | 申请(专利权)人 | 宁波维真显示科技股份有限公司 |
代理机构 | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人 | 岳泉清 |
地址 | 315105浙江省宁波市鄞州区启明路655-77号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 3D偏振膜的制备装置及方法,属于3D显示领域,本发明为解决现有制备3D偏振膜重复对位精度要求高的问题。本发明包括左旋光图案化基材形成部、右旋光图案化基材形成部和3D偏振膜形成部;左旋光图案化基材形成部:制备左旋光图案化基材并异步转印至一号衬底输入部输出的一号衬底上;右旋光图案化基材形成部:制备右旋光图案化基材并异步转印至二号衬底输入部输出的二号衬底上;3D偏振膜形成部:第三压合辊轮;转印至一号衬底的左旋光图案化基材和转印至二号衬底的右旋光图案化基材同步进入第三压合辊轮,左旋光图案化基材与右旋光图案化基材相互压合形成左右旋光交替排布的偏振层,然后将一号衬底和二号衬底中粘性小的衬底剥离,形成3D偏振膜。 |
