一种外延炉供气装置
基本信息
| 申请号 | CN201921368527.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210826439U | 公开（公告）日 | 2020-06-23 |
| 申请公布号 | CN210826439U | 申请公布日 | 2020-06-23 |
| 分类号 | C30B25/14(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 孔令沂;韩景瑞;梁土钦;孙国胜;邓菁;李锡光 | 申请（专利权）人 | 广东天域半导体股份有限公司 |
| 代理机构 | 广东莞信律师事务所 | 代理人 | 东莞市天域半导体科技有限公司 |
| 地址 | 523000广东省东莞市松山湖北部工业城工业北一路5号二楼办公楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种外延炉供气装置，包括多根进气管和一导气组件，所述导气组件的进气端通过多个进气孔与多根所述进气管对应对接，所述导气组件的出气端设有多组分散孔，每个所述进气孔通过一空腔与对应的一组所述分散孔连通，形成多条间隔的进气通道。本实用新型通过控制气体的分散性，使晶片表面的反应区域边缘气体分布均匀，进而显著提高外延片产品的边缘结晶质量，并可提高整体的指标均匀性，显著增加外延片的可用面积。 |
