蓝宝石抛光后的清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN201110097704.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102218410A | 公开（公告）日 | 2011-10-19 |
| 申请公布号 | CN102218410A | 申请公布日 | 2011-10-19 |
| 分类号 | B08B3/04(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 赵德刚 | 申请（专利权）人 | 浙江露笑光电有限公司 |
| 代理机构 | 杭州华鼎知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 浙江露笑光电有限公司 |
| 地址 | 311814 浙江省绍兴市诸暨店口镇露笑路38号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种蓝宝石抛光后的清洗方法，包括以下步骤：a、按照双氧水、氨水和去离子水的重量比＝1∶4∶5配制清洗液；b、采用步骤a所得清洗液清洗1分钟；c、用去离子水清洗4分钟；d、用硫酸清洗1分钟；e、用去离子水清洗4分钟；f、用氢氟酸清洗30秒；g、用去离子水清洗4分钟；h、用丙酮擦拭；i、用超声波清洗机清洗2分钟；j、最后用甩干机进行甩干。本发明由于采用了上述技术方案，可有效地将晶片表面残留的有机物，无机物，金属离子等去除掉，避免防止反复清洗环节，大大提高了工作效率。 |
