一种连续式等离子真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201520848334.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205115597U | 公开（公告）日 | 2016-03-30 |
| 申请公布号 | CN205115597U | 申请公布日 | 2016-03-30 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 柯文祥 | 申请（专利权）人 | 东莞市中创塑胶制品有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市科吉华烽知识产权事务所（普通合伙） | 代理人 | 东莞市中创塑胶制品有限公司 |
| 地址 | 523725 广东省东莞市塘厦镇沙湖新苑南路20号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种连续式等离子真空镀膜装置，包括镀膜室和真空管道，所述镀膜室内设有输送带，在镀膜室顶面上沿输送带运动方向设置有若干离子罩，在输送带下方设有若干电弧溅射源，所述镀膜室两侧分别设有第一隔离腔和第二隔离腔，在第一隔离腔与镀膜室连接处和第二隔离腔与镀膜室连接处分别设置有第一真空隔离阀和第二真空隔离阀，在第一隔离腔上方设有第一抽气口，在第一隔离腔上相对第一真空隔离阀一侧设有第一隔离腔门，在第二隔离腔上方设有第二抽气口，本装置通过将第一隔离腔、镀膜室和第二隔离腔依次连接并形成三个独立的真空腔体，保证在进行电离子镀膜时镀膜室内的密封性及真空程度。 |
