全合成高光切削液及其制备方法

基本信息

申请号 CN201710187625.7 申请日 -
公开(公告)号 CN107011979A 公开(公告)日 2017-08-04
申请公布号 CN107011979A 申请公布日 2017-08-04
分类号 C10M173/02(2006.01)I;C10N40/22(2006.01)N;C10N40/24(2006.01)N;C10N30/12(2006.01)N;C10N30/06(2006.01)N;C10N30/04(2006.01)N;C10N30/16(2006.01)N 分类 石油、煤气及炼焦工业;含一氧化碳的工业气体;燃料;润滑剂;泥煤;
发明人 张茂琳 申请(专利权)人 北京华懋伟业精密电子有限公司
代理机构 广州市南锋专利事务所有限公司 代理人 罗晓聪
地址 101399 北京市顺义区高丽营镇金马工业园达盛路5号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种全合成高光切削液及其制备方法,本发明全合成高光切削液的配方成分按重量比为:硼酸酯15‑20%;苯丙三唑1‑1.5%;异丙醇2‑4%;三乙醇胺4‑5%;甘油4‑5%;季铵盐沉降剂0.1‑1%;IPBC 1‑2%;消泡剂0.1‑0.8%;水65‑70%。全合成高光切削液的制备方法包括以下步骤:a、将硼酸酯18%、苯丙三唑1.5%、三乙醇胺4%依次加入反应釜,并将反应釜升温到90摄氏度,该反应釜的转速1000rpm,并搅拌15分钟;b、停止加温,并待反应釜冷却到常温,再依次加入异丙醇3%、甘油5%,并搅拌20分钟,并在搅拌的同时加入65.5%的水;c、最后加入季铵盐沉降剂0.5%、IPBC2%、消泡剂0.5%,混合均匀无沉淀即可。