具有颗粒监测功能的去离子水清洗设备
基本信息
| 申请号 | CN202023058996.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214441364U | 公开（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申请公布号 | CN214441364U | 申请公布日 | 2021-10-22 |
| 分类号 | B08B3/08;B08B3/00;B08B13/00;G01N15/10;H01L21/67 | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 吴镐硕;朴灵绪 | 申请（专利权）人 | 苏州恩腾半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 余明伟 |
| 地址 | 215024 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区02栋703室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种具有颗粒监测功能的去离子水清洗设备，包括去离子水清洗槽、补给管路、颗粒监测装置、控制装置及报警装置；去离子水清洗槽用于承载去离子水及待清洗件；补给管路一端与去离子水清洗槽相连通，另一端与去离子水源相连接；颗粒监测装置位于补给管路上且与去离子水清洗槽相邻；控制装置与颗粒监测装置及报警装置相连接，以当颗粒监测装置监测到去离子水中的颗粒数量超过预设值时产生报警信息。本实用新型经改善的结构设计，对进入清洗槽内的去离子水进行实时在线监测，并在监测到去离子水中的颗粒污染物超标时产生报警信息以提醒工作人员采取应对措施，避免因去离子水的污染导致晶圆的污染，有助于提高晶圆清洗质量。 |
