光刻胶组合物及用它形成薄膜图案和阵列基板的方法
基本信息
| 申请号 | CN202010585054.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111766762A | 公开（公告）日 | 2020-10-13 |
| 申请公布号 | CN111766762A | 申请公布日 | 2020-10-13 |
| 分类号 | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/32 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 徐宏;何向明;王倩倩 | 申请（专利权）人 | 北京华睿新能动力科技发展有限公司 |
| 代理机构 | 北京华进京联知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王勤思 |
| 地址 | 214142 江苏省无锡市新吴区菱湖大道200-11号中国传感网国际创新园E2-503 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种光刻胶组合物，包括：纳米粒子，所述纳米粒子包括金属氧化物内核和与所述金属氧化物内核配位的修饰基团，其分子通式为M6O4(OH)4XnY12‑n，M为金属元素，X和Y为所述修饰基团，且为含有双键的有机基团，0≤n≤12；巯基化合物；以及溶剂。本发明进一步涉及用所述光刻胶组合物形成薄膜图案和阵列基板的方法。 |
