用于生长大直径碳化硅晶体的装置

基本信息

申请号 CN201921332016.7 申请日 -
公开(公告)号 CN211420368U 公开(公告)日 2020-09-04
申请公布号 CN211420368U 申请公布日 2020-09-04
分类号 C30B29/36(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 刘兵;张岩;赵子强;陈菲菲;赵然 申请(专利权)人 国宏中宇科技发展有限公司
代理机构 北京润平知识产权代理有限公司 代理人 国宏华业投资有限公司
地址 100089北京市海淀区长春桥路11号3号楼12层1205
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及碳化硅晶体生长技术领域,公开了一种用于生长大直径碳化硅晶体的装置,包括坩埚(1),坩埚上设有坩埚盖(2),坩埚与坩埚盖外部包裹保温层(3);保温层上部设有第一测温孔(41),所述保温层下部固定在托盘(5)上;保温层与托盘位于石英管(6)内;石英管(6)的两端分别设有第一法兰(7)和第二法兰(8)以形成封闭结构,第一法兰上设有第二测温孔(42);石英管外部设有电磁感应线圈(9);石英管与电磁感应线圈位于中空的冷却筒(10)内;冷却筒上部设有第三测温孔(43),第三测温孔的上方设有测温装置(11)。采用本实用新型能够优化晶体生长过程中的温场分布,减少热应力,提高晶体成品率。