一种陶瓷片用吸附平台的上吸附板
基本信息
| 申请号 | CN201921708458.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211866901U | 公开（公告）日 | 2020-11-06 |
| 申请公布号 | CN211866901U | 申请公布日 | 2020-11-06 |
| 分类号 | B23K26/70(2014.01)I | 分类 | 机床；不包含在其他类目中的金属加工; |
| 发明人 | 陈刚;袁聪;林少辉;田凯华 | 申请（专利权）人 | 武汉吉事达科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 江苏殊成律师事务所 | 代理人 | 杨桂平 |
| 地址 | 430070湖北省武汉市东湖新技术开发区高新四路光谷电子产业园三期6号厂房1-2楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种陶瓷片用吸附平台的上吸附板，包括上吸附板基体，中心吸附腔体、辅助吸附腔体、吸附小孔，中心位置设有中心吸附腔体；左右分别设置至少一个辅助吸附腔体，构成多个吸附腔体；均匀排列有吸附小孔；通过下表面一个整体的长方形凹槽部分连接贯通成一体；四周设置有环形腔体凹槽；上表面上设置吸附小孔凹槽面，将吸附小孔贯通在一起，形成“E”字形状或“王”字形状的凹槽面；凹槽低于上表面；设置有接头连接孔及安装螺栓孔。本实用新型。陶瓷片用吸附平台的上吸附板，结构简单：多吸附腔体结构特点，使得气道腔体的布局更通畅、更均匀，以确保吸附力均衡，对加工件吸附更牢固稳定；具有良好的实用技术效果。 |
