一种晶圆ETCH制程设备静电吸盘的洗净再生方法及装置
基本信息
| 申请号 | CN202110498080.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113299532A | 公开（公告）日 | 2021-08-24 |
| 申请公布号 | CN113299532A | 申请公布日 | 2021-08-24 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;B08B3/08（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 于海平;贺贤汉;蒋立峰;张正伟;徐庆斌 | 申请（专利权）人 | 上海富乐德智能科技发展有限公司 |
| 代理机构 | 上海申浩律师事务所 | 代理人 | 赵建敏 |
| 地址 | 200444上海市宝山区山连路181号10幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种晶圆ETCH制程设备静电吸盘的洗净再生方法，包括：步骤一，对静电吸盘的阳极氧化铝底座表面处理；步骤二，对静电吸盘的阳极氧化铝底座表面保护；步骤三，有机溶剂浸泡静电吸盘；步骤四，对静电吸盘的氧化铝陶瓷面打磨；步骤五，双氧水浸泡静电吸盘；步骤六，再对静电吸盘的氧化铝陶瓷面打磨；步骤七，热水浸泡静电吸盘；步骤八，氨水双氧水浸泡静电吸盘；步骤九，继续对静电吸盘的氧化铝陶瓷面打磨；步骤十，用硝氟酸溶液擦拭静电吸盘的氧化铝陶瓷面；步骤十一，再用盐酸双氧水溶液擦拭静电吸盘的氧化铝陶瓷面；步骤十二，超声波清洗静电吸盘；步骤十三，去除保护并用有机溶剂擦拭；步骤十四，无尘烘箱烘干静电吸盘。 |
