一种半导体制造用气体分散部件表面痕量元素污染的测试方法
基本信息
申请号 | CN202110901283.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113484403A | 公开(公告)日 | 2021-10-08 |
申请公布号 | CN113484403A | 申请公布日 | 2021-10-08 |
分类号 | G01N27/626(2021.01)I;G01N1/40(2006.01)I;G01N1/02(2006.01)I | 分类 | 测量;测试; |
发明人 | 金奇梅;贺贤汉;李文阁;管方方;张正伟;蒋立峰 | 申请(专利权)人 | 上海富乐德智能科技发展有限公司 |
代理机构 | 上海申浩律师事务所 | 代理人 | 陆叶 |
地址 | 200444上海市宝山区山连路181号10幢 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及半导体技术领域。一种半导体制造用气体分散部件表面痕量元素污染的测试方法,包括以下步骤:步骤一,采样区内放置一块干净的疏水性光滑平面,在其表面滴加适量的稀硝酸溶液,一定时间后回收溶液,并放置于一个洁净的空瓶内,用ICP‑MS测试溶液中元素含量;步骤二,采样区内放置一块干净的疏水性光滑平面,在其表面滴加适量的稀硝酸溶液,由于表面张力的作用会使得溶液聚成球形,接着取出待测的带通孔零部件样品轻轻放置于球形溶液上方,一定时间后将样品轻轻拿出,并回收溶液将其置于一个洁净的空瓶内,用ICP‑MS测试溶液中元素含量;步骤三,取两次测试结果的差值,通过公式计算最终得到待测工件的痕量元素污染含量。 |
