熔体法生长碳化硅单晶用碳源供应装置
基本信息
申请号 | CN202010776039.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN111676516A | 公开(公告)日 | 2020-09-18 |
申请公布号 | CN111676516A | 申请公布日 | 2020-09-18 |
分类号 | C30B29/36(2006.01)I;C30B11/10(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
发明人 | 郑红军 | 申请(专利权)人 | 常州臻晶半导体有限公司 |
代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 郑红军;中科臻晶(无锡)半导体有限公司 |
地址 | 100000北京市海淀区稻香园3号楼3单元401 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及碳化硅晶体生长装置领域,具体而言,涉及一种熔体法生长碳化硅单晶用碳源供应装置。熔体法生长碳化硅单晶用碳源供应装置包括坩埚本体和碳源块;所述坩埚本体内设置有熔体;所述碳源块放置在所述坩埚本体的内部的底部,且被所述熔体覆盖,所述熔体用于将所述碳源块溶解为碳化硅晶体生长所需的碳源。本发明的有益效果是:通过在坩埚本体内的底部放置碳源块,熔体覆盖碳源块,能够使碳源块进行充分溶解,进而通过碳源块给碳化硅晶体生长提供稳定的、足够的碳源,形成稳定的碳供应。 |
