应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置
基本信息
| 申请号 | CN201920231117.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209584361U | 公开（公告）日 | 2019-11-05 |
| 申请公布号 | CN209584361U | 申请公布日 | 2019-11-05 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I; C23C14/08（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王雪涛; 李玉新; 宋蕊立 | 申请（专利权）人 | 河北惟新科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 050000 河北省石家庄市高新区长江大道238号宏昌科技园7号楼一层102、106、107室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置，包括水平设置在烧结窑内支架上的支撑座，所述支撑座的上端面倾斜设置，倾斜设置的支撑座上端面上放置有用于承载ITO靶材坯体的承烧板，承烧板的上端面上匀布有若干条贯穿承烧板前后、用于流过氧气气流的沟槽；位于较低端的支撑座倾斜上端面端部设置有承托承烧板和ITO靶材坯体的挡块。本实用新型可使氧气通过水平设置的沟槽与靶材坯体接触，提高了透氧率；同时倾斜设置承烧板可将靶材坯体的重力在水平方向上实现分解，降低了坯体与承烧板之间的摩擦力，有利于靶材坯体的收缩，减少了烧结时间，提高了靶材坯体的烧结成品率以及烧结密度。 |
