一种减反射结构体及其制作方法、光学器件
基本信息
| 申请号 | CN202111314471.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114019592A | 公开（公告）日 | 2022-02-08 |
| 申请公布号 | CN114019592A | 申请公布日 | 2022-02-08 |
| 分类号 | G02B1/118（2015.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 王兴祥;陈文礼;胡汉林;李松华;包悦;赵文广;刘继伟;刘文霞;王金华;孙俊伟 | 申请（专利权）人 | 烟台睿创微纳技术股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张艺 |
| 地址 | 264006山东省烟台市烟台开发区贵阳大街11号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种减反射结构体，包括：基底；位于所述基底的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的矩形排列。本申请中的减反射结构体包括基底和设置在基底上的微结构阵列，由于微结构阵列中多个微结构呈不规则的排列，微结构阵列可以使散射光线在空间中均匀分布，所有角度的反射光强均比较小，从而防止减反射结构体表面产生眩光。此外，本申请还提供一种具有上述优点的减反射结构体制作方法和光学器件。 |
