一种用于实施化学气相沉积过程的设备
基本信息
| 申请号 | CN201410093122.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103834931A | 公开（公告）日 | 2014-06-04 |
| 申请公布号 | CN103834931A | 申请公布日 | 2014-06-04 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 阿久津·仲男;陈皓;汪英杰 | 申请（专利权）人 | 华延芯光（北京）科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京权泰知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 任永利 |
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区宏达北路12号A813室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种用于实施化学气相沉积过程的设备，其中最关键的反应器主体2包括：加热腔51、密封腔52和反应腔53；其中加热腔51中具有加热器13、中空轴7、通气法兰15，其中所述通气法兰15固定在反应器底板23上；其中密封腔52由反应器底板23、加热腔侧壁14、密封腔壁521和密封腔顶板522所围成；其中反应腔53由反应器底板23、密封腔侧壁521、反应腔侧壁531、气流通道上盖10、密封腔顶板522、加热腔顶盖11以及中空轴7上部的外翻平板7-4所围成，其特征在于，所述加热腔顶盖11能够在所述中空轴7的带动下旋转，且所述加热腔侧壁14能与所述加热腔顶盖11同步旋转。 |
